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          為客戶提供全面的設(shè)備和工藝解決方案

          • 薄膜沉積 • 薄膜刻蝕 • 定制設(shè)備

          為客戶提供全面的設(shè)備和工藝解決方案

          • 薄膜沉積 • 薄膜刻蝕 • 定制設(shè)備

          為客戶提供全面的設(shè)備和工藝解決方案

          • 薄膜沉積 • 薄膜刻蝕 • 定制設(shè)備

          "產(chǎn)品中心
          為客戶提供全面的設(shè)備和工藝解決方案
          AVP 電子束蒸鍍機(jī) SYSTEM
          -制備高性能、高可靠性功能薄膜的關(guān)鍵設(shè)備
          -廣泛用于高熔點(diǎn)、高沸點(diǎn)材料處理,如蒸發(fā)鎢、鉬、鉭、氧化鋁等材料
          -附著力強(qiáng)、結(jié)構(gòu)致密的高質(zhì)量薄膜
          -實(shí)踐證明的可靠、低成本、高產(chǎn)能的薄膜沉積系統(tǒng)和工藝
          -制備高性能、高可靠性功能薄膜的關(guān)鍵設(shè)備
          -廣泛用于高熔點(diǎn)、高沸點(diǎn)材料處理,如蒸發(fā)鎢、鉬、鉭、氧化鋁等材料
          -附著力強(qiáng)、結(jié)構(gòu)致密的高質(zhì)量薄膜
          -實(shí)踐證明的可靠、低成本、高產(chǎn)能的薄膜沉積系統(tǒng)和工藝
          AVP IBE System
          - 廣泛適用所有材料刻蝕,包括RIE難以刻蝕的Au、Pt、Mo等難熔金屬、Fe、Co、Ni等磁性材料、陶瓷、氧化物、多層膜、傾斜光柵等。
          - 成熟、可靠、低成本、高產(chǎn)能、7/24連續(xù)運(yùn)行的薄膜刻蝕系統(tǒng)
          - 歐美工業(yè)生產(chǎn)驗(yàn)證的、多種成熟的薄膜刻蝕工藝
          - 杰出的薄膜刻蝕均勻性和重復(fù)性
          - 廣泛適用所有材料刻蝕,包括RIE難以刻蝕的Au、Pt、Mo等難熔金屬、Fe、Co、Ni等磁性材料、陶瓷、氧化物、多層膜、傾斜光柵等。
          - 成熟、可靠、低成本、高產(chǎn)能、7/24連續(xù)運(yùn)行的薄膜刻蝕系統(tǒng)
          - 歐美工業(yè)生產(chǎn)驗(yàn)證的、多種成熟的薄膜刻蝕工藝
          - 杰出的薄膜刻蝕均勻性和重復(fù)性
          - 純物理刻蝕,采用惰性氣體為工藝氣體,環(huán)保、無(wú)污染,應(yīng)用廣泛
          AVP HR PVD System
          -高濃度離子輔助的傾角濺射(Directional Sputtering)
          -高速率反應(yīng)濺射,如Al2O3的沉積速率 > 1nm/s
          -優(yōu)異的薄膜厚度均勻性(1σ<1%),裹覆率(Step Coverage ~50%)
          -基片背面氦氣冷卻,基片溫度(<50°C)
          -高靶材使用率(>8
          -高濃度離子輔助的傾角濺射(Directional Sputtering)
          -高速率反應(yīng)濺射,如Al2O3的沉積速率 > 1nm/s
          -優(yōu)異的薄膜厚度均勻性(1σ<1%),裹覆率(Step Coverage ~50%)
          -基片背面氦氣冷卻,基片溫度(<50°C)
          -高靶材使用率(>80%)
          "支持與服務(wù)
          為客戶提供全面的設(shè)備和工藝解決方案
          "關(guān)于艾微普
          為客戶提供全面的設(shè)備和工藝解決方案
          專注打造世界先進(jìn)水平的高端微納器件、半導(dǎo)體、及新能源加工設(shè)備
          公司由美國(guó)硅谷企業(yè)家團(tuán)隊(duì)與國(guó)內(nèi)著名上市企業(yè)天通公司(TDG)合作,在浙江海寧創(chuàng)立。公司聚集了多位海內(nèi)外資深微納加工及半導(dǎo)體設(shè)備、工藝、材料專家,專注打造世界先進(jìn)水平的高端微納器件、半導(dǎo)體、及新能源加工設(shè)備。

          公司的核心技術(shù)和產(chǎn)品包括物理氣相沉積/磁控濺射(PVD)、離子束刻蝕機(jī)(IBE)、反應(yīng)離子刻蝕機(jī)(RIE)、電子束蒸鍍機(jī)等系列MEMS、半導(dǎo)體、新能源器件制造專用設(shè)備。公司自創(chuàng)立以來(lái),已經(jīng)獲得幾十項(xiàng)國(guó)家專利。
          公司總部
          中國(guó)浙江省嘉興市海寧市海昌街道芯中路6號(hào)16幢
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